气相二氧化硅的性质-发展现状及其应用(通用3篇)

气相二氧化硅的性质-发展现状及其应用 篇一

气相二氧化硅是一种具有特殊性质的材料，具有广泛的应用前景。本文将介绍气相二氧化硅的性质、发展现状以及其在不同领域的应用。

首先，我们来了解一下气相二氧化硅的性质。气相二氧化硅是一种无色、无味、无毒的气体，在常温下是固态，但在高温下可以转化为气体。它具有良好的热稳定性和化学稳定性，不易与其他物质发生反应。此外，气相二氧化硅具有高度的纯度和均匀性，可以通过调节温度和压力来控制其形态和粒径。

随着科技的发展，气相二氧化硅的制备技术也在不断进步。目前，常用的制备方法包括热解法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积法。热解法是将硅源加热至高温，使其分解生成气相二氧化硅。溶胶-凝胶法是通过将硅源溶解于溶剂中，然后将其凝胶化并进行热处理，最终得到气相二氧化硅。化学气相沉积法是将气相硅化合物引入反应器中，在特定的温度和压力下分解生成气相二氧化硅。

气相二氧化硅在许多领域都有着广泛的应用。首先，它在光学领域有着重要的应用。由于气相二氧化硅具有良好的透明性和折射率调控性，可以制备出高质量的光学薄膜和光纤。这些光学材料广泛应用于光通信、激光器、光学传感器等领域，为光学器件的研究和应用提供了有力支持。

其次，气相二氧化硅在电子器件中也有着重要的应用。由于其热稳定性和化学稳定性，气相二氧化硅被广泛用于制备绝缘层、隔离层和介电层等。这些电子材料可以应用于集成电路、电容器、传感器等电子器件中，提高器件的性能和可靠性。

此外，气相二氧化硅还具有优良的吸附性能，可以应用于环境保护和能源领域。它可以吸附有害气体、重金属离子等污染物，起到净化空气和水的作用。同时，气相二氧化硅还可以作为催化剂的载体，用于催化反应和能源转化。

综上所述，气相二氧化硅是一种具有特殊性质的材料，具有广泛的应用前景。随着制备技术的不断进步，气相二氧化硅在光学、电子、环境保护和能源等领域的应用将会得到进一步拓展。

（文章字数：623字）

气相二氧化硅的性质-发展现状及其应用 篇二

气相二氧化硅是一种具有特殊性质的材料，在各个领域都有着广泛的应用。本文将介绍气相二氧化硅的性质、发展现状以及其在电子器件、材料科学和生物医学领域的应用。

首先，我们来了解一下气相二氧化硅的性质。气相二氧化硅是一种无色、无味、无毒的气体，具有高度的纯度和均匀性。它具有良好的热稳定性和化学稳定性，不易与其他物质发生反应。此外，气相二氧化硅还具有优良的吸附性能和抗腐蚀性能，可以应用于环境保护和材料科学领域。

随着科技的发展，气相二氧化硅的制备技术也在不断进步。目前，常用的制备方法包括热解法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积法。热解法是将硅源加热至高温，使其分解生成气相二氧化硅。溶胶-凝胶法是通过将硅源溶解于溶剂中，然后将其凝胶化并进行热处理，最终得到气相二氧化硅。化学气相沉积法是将气相硅化合物引入反应器中，在特定的温度和压力下分解生成气相二氧化硅。

气相二氧化硅在电子器件中有着重要的应用。由于其热稳定性和化学稳定性，气相二氧化硅被广泛用于制备绝缘层、隔离层和介电层等。这些电子材料可以应用于集成电路、电容器、传感器等电子器件中，提高器件的性能和可靠性。

此外，气相二氧化硅在材料科学领域也有着广泛的应用。气相二氧化硅可以用于制备高质量的光学薄膜和光纤，用于光通信、激光器、光学传感器等光学器件中。此外，气相二氧化硅还可以作为催化剂的载体，用于催化反应和能源转化。

在生物医学领域，气相二氧化硅也有着重要的应用。它可以作为药物载体，用于控释药物和治疗肿瘤等疾病。此外，气相二氧化硅还可以用于制备生物传感器和生物成像材料，用于检测和诊断疾病。

综上所述，气相二氧化硅是一种具有特殊性质的材料，在电子器件、材料科学和生物医学领域都有着广泛的应用。随着制备技术的不断进步，气相二氧化硅的应用前景将会进一步拓展。

（文章字数：620字）

气相二氧化硅的性质-发展现状及其应用 篇三

气相二氧化硅的性质-发展现状及其应用

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气相二氧化硅的性质、发展现状及其应用

郑景新 舒畅 钟婷婷

（广州吉必盛科技实业有限公司，广州 510450）

摘 要：介绍了气相二氧化硅的制备及其性质与用途，并对其表面改性工艺作了阐述。简述了国内外气相二氧化硅的生产研发现状，对我国未来气相二氧化硅的发展前景作了预测。

关键词：气相二氧化硅，性质，表面改性，发展现状，应用前景

气相二氧化硅（俗名气相法白炭黑）是一种精细、白色、无定形的粉体材料，具有粒径小、比表面积大、表面活性高和纯度高等特性，常常在液体体系中作为增稠剂和触变剂，也可取代炭黑作为橡胶的补强填料，打破了黑色橡胶一统天下的局面。由于21世纪多晶硅太阳能产业与有机硅工业的高速增长，其副产物四氯化硅和甲基三氯硅烷的综合利用是硅产业链急需解决的问题，而气相二氧化硅可以利用四氯化硅和甲基三氯硅烷等氯硅烷经氢氧焰高温水解制得，且在生产过

程中分离出的氯化氢、氢气、三氯氢硅又可以作为多晶硅和有机硅工业的原料，从而实现了硅资源的循环利用，降低了污染排放，又提高了经济效益。目前气相二氧化硅的制造已经达到非常高的水平，在产品的粒径、表面化学性质等方面的控制水平大大提高，朝着功能化、可设计化方向发展。

１、气相二氧化硅的制备及性质

气相法制备纳米二氧化硅所用的原材料主要是可挥发性、可水解性的有机硅烷，其中最为常

见的是卤硅烷如四氯化硅、甲基三氯硅烷等。在

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二十世纪六十至七十年代，气相二氧化硅主要是以四氯化硅为原料，随着有机硅单体工业的发展，其副产物甲基三氯硅烷等的出路问题成了束缚其

发展的瓶颈，因此以甲基三氯硅烷为原料制备气相二氧化硅逐渐成为主流。四氯化硅和甲基三氯化硅的反应原理如图1所示。

SiCl4+2H2+O2

CH3SiCl3+2H2+3O2

SiO2+H2O+4HCl SiO2+3HCl+CO2+2H2O

图1 四氯化硅和甲基三氯化硅制备气相二氧化硅原理

气相二氧化硅通过卤硅烷在氢氧焰中高温水解缩聚而生成二氧化硅粒子，然后骤冷，颗粒经过骤聚、气固分离、脱酸等后处理工艺而获得产品。

气相二氧化硅的分子式是SiO2，但事实上它是由硅原子和邻近的四个氧原子直接构成共价单键，因而每个原子都符合八隅规则，由于电子对占据的位置尽可能互相远离，它们是按照四面体结构排列的。气相二氧化硅的原生粒子是极细小的，其粒径数量级仅为十亿分之一米。通过TEM 可以观察到气相二氧化硅是由很多几乎是球状的原生粒子构成的，原生粒子之间形成松散的网状

硅氧基

孤立羟基

H表面

Si

Si

Si

Si

Si

邻位羟基

H

H双重羟基

H

结构，同一种型号的气相二氧化硅原生粒子的粒径大小不会完全相同，气相二氧化硅的原生粒子的粒径平均范围在7到40nm 之间。气相二氧化硅无结晶质的存在，是无定形态。

由于卤硅烷在水解之后的缩聚是不完全的，因此还残留有许多硅羟基(Si—OH)在二氧化硅表面以及聚集体内部，此外在气相二氧化硅表面还有硅氧基，这就使得气相二氧化硅表面呈现较强的极性。气相二氧化硅表面的硅羟基可以分为孤立羟基、邻位羟基(相邻羟基)和双重羟基，一般以孤立和相邻羟基为主。图2是气相二氧化硅的表面结构示意图。

图2 气相二氧化硅的表面结构

二氧化硅表面硅羟基的多寡直接决定着二氧化硅的应用性能，亲水型和疏水性二氧化硅的性能差异就是因为彼此表面羟基数量的不同，一般来说，亲水型气相二氧化硅的硅羟基数量在2～3个/nm2之间，而疏水性的二氧化硅的硅羟基数量

在1个/nm2以下。二氧化硅在体系中分散后，可以通过其表面的硅羟基相互作用形成氢键，从而形成一个二氧化硅网络，这种网络在剪切力的作用下可以被破坏，剪切力消除后网络又可再次形成，这就是气相二

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原因。

亲水型二氧化硅表面呈亲水疏油性，在有机介质中难以浸润和分散，直接填充到材料中，很难发挥其作用，这就限制了二氧化硅的应用范围。而疏水型气相二氧化硅是在亲水型气相二氧化硅表面接上处理剂基团，使其由亲水疏油性变为疏水亲油性，同时增大二氧化硅粒子之间的空间位阻，从而能较好地分散到有机介质中，增强二氧化硅与有机分散介质的相溶性，改善二氧化硅的工艺性能。由于疏水型气相二氧化硅的表面硅羟基密度要比亲水型气相二氧化硅的表面硅羟基密度低，因此一般来说，疏水型气相二氧化硅的干燥减量比亲水型气相二氧化硅的要低的多(相同的存储条件和存储时间)。而干燥减量越低，就越能提高加入了二氧化硅的单组分粘合剂或涂料等材料的存储稳定性。也就是因为硅羟基密度的不同。

应方式可以分为以下几种改性方法：有机硅烷法、醇酯法、聚合物接枝法、重氮法、卤素反应发和格利雅试剂法。有机硅烷法和醇酯法是目前白炭黑工业使用最普遍，而且真正实现产业化的改性方法。

气相法白炭黑的表面改性工艺可以分为间歇式工艺和连续化工艺，而按白炭黑与改性剂的接触反应状态又可以分为干法处理和湿法处理。湿法改性工艺是采用白炭黑与改性剂混合，在反应釜中高温高压下反应；而干法改性工艺是采用白炭黑与改性剂蒸汽接触反应。这两种方法各有有缺点，湿法处理常见于使用白炭黑的企业中，它们为了改善气相法白炭黑的使用性能而自行对白炭黑进行改性，而干法改性则主要是气相法白炭黑生产企业采用的工艺，效率高，容易实现连续化生产。虽然气相法白炭黑的表面改性方法和工艺很多，但是对于气相法白炭黑生产企业，最合理的工艺是采用连续化干法表面改性工艺。

２、气相二氧化硅的表面改性

气相法白炭黑表面含有大量的羟基等极性基团，使原生粒子之间极易相互碰撞而聚集在一起，形成微米级的二氧化硅二次聚集体，二次聚集体之间进一步相互作用，形成尺寸较大的二氧化硅附聚体。这就影响了气相法白炭黑在有机聚合物中的分散性、相溶性以及其特殊性能的发挥，甚至导致在某些有特殊要求的领域中无法使用。因此常常需要对其进行表面改性，以拓宽气相法白炭黑的应用领域。表面改性就是使二氧化硅粒子表面的活性羟基与有机化合物发生缩合反应而在二氧化硅表面覆盖一层有机分子，使二氧化硅表面由亲水性变为疏水性，从而改善二氧化硅与有机物分子之间的浸润性、分散性、界面结合强度，提高材料的综合性能和产品的附加值。因此理论上只要能够与硅羟基反应的物质都可以用作气相二氧化硅的表面处理剂，所以按表面改性化学反

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３、气相二氧化硅的生产现状

气相法生产二氧化硅最早是在1941年，由德国的Degussa化学公司首先发明这项技术，上世纪60年代，主要由德国、美国、前苏联（乌克兰）和日本控制着该技术和垄断全球气相法白炭黑的市场。我国气相二氧化硅的研发生产始于上世纪60年代，当时只是为满足国防和军工需求，民用很少，到2001年以前，我国还只有沈阳化工股份有限公司与上海氯碱股份有限公司两家企业生产气相法白炭黑。进入21世纪，气相二氧化硅民用市场逐渐增大，每年需求量供不应求，大部分依赖进口。国外生产研发气相二氧化硅的公司主要有Degussa、Wacker、Cabot和Tokuyama，这四大公司凭借其悠久的发展历史和先进的生产技术占据着全球大部分市场。2001年广州吉必时科技

实业有限公司（广州吉必盛科技实业有限公司前身）打破技术垄断，建成当时国内单机产能最大的500吨/年气相法白炭黑生产线，随后我国气相法白炭黑工业经历了一个迅速的发展阶段，国内企业产能和产量都上了一个新台阶。虽然我国气相二氧化硅产业发展较快，但由于起步较晚，目前产能还完全达不到市场需求，市场缺口还很大，

表1 2006年世界气相法白炭黑生产情况 （单位：万吨/年）

生产厂家/国家 德国瓦克公司 美国卡博特公司 德国德固赛公司 日本德山曹达株式会社

乌克兰卡路什

中国 韩国 合计

表2 国内气相法白炭黑产能装置情况 （单位：吨/年）

生产厂家 沈阳化工股份有限公司 卡博特蓝星材料股份有限公司

地点 沈阳 江西

2007年产能

1000 4600

备注 自有技术

引进技术，其第二个基地计划在天津，产能为7000

吨/年

广州吉必盛科技实业有限公司 上海氯碱化工股份有限公司 日本德山曹达株式会社

德国瓦克公司

合计

目前国产气相二氧化硅的生产规模和产品质

量与国外产品相比差距不大，而且还有部分产品

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因此国外公司也纷纷在国内合资或者独资设厂生产气相法白炭黑。Wacker、Cabot和Tokuyama公司都已在我国合资或者独资设厂，另外Degussa公司也开始跟国内公司进行洽谈，准备进入中国市场。表1是2006年世界气相法白炭黑的生产状况，表2是我国气相法白炭黑的生产状况和预测。

产能 产量 市场占有率/%

吉林、浙江、广州 上海 嘉善 张家港

自有技术，四川、江苏基

2800 100 5000 ---

地2008年底投产，产能将超过10000吨/年。

国产 国外技术

国外技术，2008年建成，

产能为5000吨/年

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